CONTINÚA ITESCA CRECIENDO EN EDUCACIÓN DUAL

A partir del mes de febrero, una nueva generación conformada por 30 estudiantes de distintos programas académicos del Instituto Tecnológico Superior de Cajeme (ITESCA),  iniciará su estancia de un año bajo el esquema de Educación Dual en la empresa Maquilas Tetakawi.

La Mtra. Martha Patricia Patiño Fierro, Directora General de esta casa de estudios felicitó a las y los jóvenes por la oportunidad que ello representa para su crecimiento y desarrollo personal y profesional.

Las y los estudiantes de esta nueva generación son de los programas de Ingeniería en Gestión Empresarial, Licenciatura en Administración, Ingeniería Ambiental, y por primera vez, para este año se incorpora la carrera de Ingeniería en Sistemas Computacionales; estarán perfeccionando sus conocimientos en las especialidades de Gestión del Talento Humano Import-Export, Mejora e Innovación del Negocio, Desarrollo de Software, Regulación Ambiental, Seguridad e Higiene.

Patiño Fierro recordó que este modelo permite a las y los participantes continuar con los estudios de su último semestre con la realización de su Residencia Profesional, lo que significa que al culminar sus estudios profesionales ya contarán con un año de experiencia laboral.

Para el cierre del año 2022 se cuenta con 85 estudiantes que han egresado del esquema de Educación Dual. Cabe destacar que al día de hoy se tiene una empleabilidad de egreso del programa de 100%, del cual más del 40% son empleados antes de finalizar el programa.

El ITESCA es pionero en nuestro estado y en el país en implementar el modelo de enseñanza de Educación Dual. Este consiste en un sistema de formación profesional que vincula a dos instancias para beneficio mutuo, involucra además al sector productivo, gobierno y sociedad; combina una parte de enseñanza teórica en escuelas profesionales y la otra parte en la empresa, lo cual permitirá a la industria contar con el personal formado con teoría y práctica diseñado específicamente para el desempeño de las labores que requiere en sus procesos.